蔡司场发射扫描电镜Sigma300电子扫描显微镜
Sigma系列产品用于高品质成像与高级分析的场发射扫描电子显微镜，将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的Gemini电子光学元件。多种探测器可选:用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma半自动的4步工作流程节省大量的时间:设置成像与分析步骤，提高效率。有背散射几何探测器，可快速方便地实现基础分析。

蔡司场发射扫描电镜Sigma300电子扫描显微镜

产品概述

Sigma系列产品用于高品质成像与高级分析的场发射扫描电子显微镜，将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的Gemini电子光学元件。多种探测器可选:用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma半自动的4步工作流程节省大量的时间:设置成像与分析步骤，提高效率。Sigma300性价比高。Sigma500装配有背散射几何探测器，可快速方便地

实现基础分析。任何时间，任何样品均可获得精准可重复的分析结果。

产品特点

• 用于清晰成像的灵活探测

利用优良探测术为您的需求定制Sigma，表征所有样品。利用in-lens双探测器获取形貌和成份信息利用新一代的二次探测器，获取高达50%的信号图像。在可变压力模式下利用Sigma创新的C2D和可变压力探测器，在低真空环境下获取高达85%对比度的锐利的图像。

• 自动化加速工作流程

4步工作流程让您控制Sigma的所有功能。在多用户环境中，从快速成像和节省培训首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。接下来对样品感兴趣的区域进行优化并自动采集图像。最后使用工作流程的最后一步，将结果可视化。

• 高级分析型显微镜

将扫描电子显微镜与基本分析相结合:Sigma背散射几何探测器大大提升了分析性能，特别是对电子束敏感的样品。在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。

获益于8.5mm短的分析工作距离和35°夹角，获取完整且无阴影的分析结果。

技术参数

分辨率:1.2nm @15 kV 2.2nm @1kV

放大倍数:10-1000000X

加速电压:调整范围:0.02-30kV(无需减速模式实现)

探针电流:4pA-20nA(40nA&100nA可选

低真空范围:2-133Pa (Sigma 300VP可用)

样品室:365 mm (o),275mm (h)

样品台:5轴优中心全自动X=125mmY=125mmZ=50mm T=-10°-90°R=360连续

系统控制:基于Windows7的SmartSEM操作系统可选鼠标、键盘、控制面板控制

蔡司场发射扫描电镜Sigma300电子扫描显微镜