反射膜厚测量仪半导体光学膜厚仪
1. 非接触无损测量，不损伤样品，适配各类薄膜、涂层检测
2. 测量精度高，膜厚重复性可达0.02nm，覆盖纳米‑微米宽量程（1nm‑70μm）
3. 支持单层/多层膜解析，可同时测算膜厚、折射率、消光系数等光学参数
4. 微区定点测量，光斑最小至10μm，显微定位，精准测微小区域点位

反射膜厚测量仪半导体光学膜厚仪

无损光学测量：基于反射干涉原理，非接触、无损伤检测，无需样品前处理，可直接对成品、晶圆、镀膜件进行检测，不会破坏待测样品。

- 宽量程高精度检测：测量范围覆盖1nm‑70μm，兼顾超薄纳米膜与较厚涂层；重复性测量精度可达0.02nm，满足半导体、光学镀膜、新材料研发的严苛检测要求 。

- 多层薄膜解析能力：内置多种分析算法，可完成单层、多层复合薄膜的膜厚、折射率、消光系数同步求解，适配介质膜、有机膜、无机膜、金属涂层等多种膜系结构 。

- 微区精准定位（SR‑M显微款）：搭配显微物镜，光斑最小可做到10μm，可对样品微小区域定点测量，适合芯片、微小器件局部膜厚表征，肉眼可视化对准测量点位 。

- 全自动Mapping均匀性检测（SR‑Mapping）：支持6‑12寸大尺寸样品，自定义编辑测量点位与扫描路径，自动完成整片扫描，生成膜厚分布热力图，评估镀膜均匀性，适配产线品质管控与镀膜设备调试 。

- 双算法适配：FFT傅里叶变换算法适合厚膜快速测量；曲线拟合算法适合超薄薄膜高精度解析，兼顾测量速度与准确度 。

产品与服务优势

1. 国产自主研发，拥有完整软硬件自研能力，相比进口设备，方案定制响应更快，售后本地化服务便捷 。

2. 模块化可定制：可按需选配显微测头、自动位移台、在线集成模块，支持SDK二次开发，兼容实验室科研、产线在线监测多种场景 。

3. 丰富材料模型库：内置大量光电材料数据库，减少建模工作量，降低操作人员使用门槛，快速输出检测报告 。

4. 光源稳定可靠：采用高强度卤素光源，光谱覆盖紫外‑可见光‑近红外，光源稳定性好，长期测量数据一致性高 。

5. 应用覆盖广：广泛用于半导体晶圆、光学镀膜、显示面板、新能源、光电材料、科研院校实验室等场景 。

适用样品

介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、金属膜、各类涂层、晶圆、光学镜片、光刻胶薄膜等 。

反射膜厚测量仪半导体光学膜厚仪